Yeni Üç Boyutlu Baskı Tekniği Nano Ölçekli Üretimi 1000 Kat Hızlandırıyor
Ultra hızlı bir lazerden çıkan ışığın zaman temelli bir yöntemle kontrol edildiği yeni bir nano ölçekli 3B baskı tekni- ği minik yapıların, yaygın teknik olan iki fotonlu litografiye (TPL) göre 1000 kat daha hızlı bir şekilde, üstelik çözünürlükten ödün verilmeksizin inşa edilmesini sağlıyor. Yüksek çıktı kapasitesine karşın, femtosaniye projeksiyon (FP-TPL) olarak adlandırılan bu yeni paralelleştirilmiş teknik 175 nanometrelik derinlik çözünürlüğü sağlıyor. Bu da yerleşmiş yöntemlerle elde edilebilenden daha iyi. 90 derecelik çıkıntısı olan yapıların inşasına olanak tanıması ise tekniğin bir diğer üstünlüğü. Science’ta yayımlanan bir makaleyle tanıtılan bu yeni tekniğin doku mühendisliğin- de kullanılan biyoiskelelerin, esnek elektroniklerin, elektrokimyasal arayüzlerin, mikro-optiklerin, mekanik ve op- tik metamateryallerin ve başka işlevsel mikro ve nano yapıların seri üretimine imkân sağlayabileceği düşünülüyor.